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半導體真空管式爐通過設(shè)備控制系統(tǒng)，可實現(xiàn)樣品在低、中、高真空環(huán)境下進行試驗，可有效地防止氧化、腐蝕和污染等問題，加熱過程中可保持材料的純潔性和質(zhì)量。該產(chǎn)品在航空航天、電子技術(shù)、高等院校、工礦企業(yè)、科研單位、材料研究等領(lǐng)域都有廣泛應(yīng)用。真空管式爐可作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和釬焊、冶金、玻璃、升華、合成、干燥、脫氣、脫脂、新能源、碳纖維、半導體、納米技術(shù)、燒結(jié)鍍膜

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